Valvola a membrana pneumatica in acciaio inossidabile per gas ad alta purezza Alta pressione da 1/4 di pollice

Specifica della valvola a membrana pneumatica

Processo di pulizia

	Principali materiali strutturali
	Numero di serie	elemento	consistenza del materiale
	1	Maneggiare	alluminio
	2	Attuatore	alluminio
	3	Stelo della valvola	304 SS
	4	Cofano	S17400
	5	Dado del cofano	316 SS
	6	Pulsante	ottone
	7	diaframma (5)	Lega di nichel cobalto
	8	sede della valvola	PCTFE
	9	corpo valvola	Acciaio inossidabile 316L

Dimensioni e informazioni per l'ordine

Tipo diretto
taglia
Le dimensioni sono in pollici (mm) sono solo di riferimento

Numero d'ordine di base	Tipo e dimensione della porta	dimensionein.(mm)
		A	B	C	L
WV4H-6L-TW4-	1/4″ Tubo -W	0,44 (11,2)	0,30 (7,6)	1,12 (28,6)	1,81 (45,9)
WV4H-6L-FR4-	1/4″ FA-MCR	0,44 (11,2)	0,86 (21,8)	1,12 (28,6)	2,85 (72,3)
WV4H-6L-MR4-	1/4″ MA-MCR1/4	0,44 (11,2)	0,58 (14,9)	1,12 (28,6)	2,85 (72,3)
WV4H-6L-TF4-	OD	0,44 (11,2)	0,70 (17,9)	1,12 (28,6)	2,85 (72,3)

Industrie coinvolte

LCD TFT

I gas speciali di processo utilizzati nel processo di deposizione CVD del processo di produzione TFT-LCD sono silano (S1H4), ammoniaca (NH3), fosfina (PH3), protossido di azoto (N2O), NF3, ecc. Inoltre, idrogeno ad alta purezza e alta anche l'azoto puro e altri gas sfusi sono coinvolti nel processo.L'argon viene utilizzato nel processo di sputtering e il gas che forma il film spruzzato è il materiale principale per lo sputtering.Innanzitutto, è necessario che il gas filmogeno non possa reagire con il bersaglio e il gas più appropriato è il gas inerte.Nel processo di incisione verrà utilizzata anche una grande quantità di gas speciale, mentre il gas speciale elettronico è per lo più infiammabile, esplosivo e altamente tossico, quindi i requisiti per il circuito e la tecnologia del gas sono molto elevati.Wofei Technology è specializzata nella progettazione e installazione di sistemi di trasmissione di gas speciali ad altissima purezza.

I gas speciali sono utilizzati principalmente nei processi di formazione di film e di incisione a secco nell'industria LCD.Esistono molti tipi di LCD, tra i quali TFT-LCD è la tecnologia LCD più utilizzata grazie ai tempi di risposta rapidi, all'elevata qualità delle immagini e al costo gradualmente inferiore.Il processo di produzione del pannello TFT-LCD può essere suddiviso in tre fasi: matrice anteriore, cella centrale e assemblaggio del modulo posteriore.Il gas elettronico speciale viene utilizzato principalmente nelle fasi di formazione del film e di attacco a secco del processo di front array.Dopo molteplici processi di formazione del film, i film non metallici SiNx e i film metallici come griglia, sorgente, drenaggio e ITO vengono rispettivamente depositati sul substrato.

 

Q1.E il tempo di consegna?

A: Il campione ha bisogno di 3-5 giorni, il tempo di produzione di massa richiede 1-2 settimane per la quantità dell'ordine superiore a

D2.Hai qualche limite di MOQ?

A: MOQ basso 1 foto.

D3.Come spedite la merce e quanto tempo ci vuole per arrivare?

A: Di solito spediamo tramite DHL, UPS, FedEx o TNT.Di solito ci vogliono 5-7 giorni.Anche la spedizione aerea e marittima è facoltativa.

D4.Come procedere con un ordine?

A: In primo luogo facci sapere le tue esigenze o la tua applicazione.

In secondo luogo, citiamo in base alle vostre esigenze o ai nostri suggerimenti.

In terzo luogo il cliente conferma i campioni e deposita il deposito per l'ordine formale.

Quarto Organizziamo la produzione.