Il regolatore di pressione del gas ad alta pressione 25MPA viene utilizzato per l'immagine in primo piano del gas tossico corrosivo da laboratorio

Il regolatore di pressione del gas ad alta pressione 25MPA viene utilizzato per gas tossici corrosivi da laboratorio

Breve descrizione:

Caratteristiche

1. Struttura di rilevamento del pistone monostadio

2. Intervallo di regolazione della pressione di uscita più ampio

3. Può essere utilizzato per gas standard e gas non corrosivi

4. Installare un elemento filtrante da 20 micron all'ingresso

5. È possibile fornire opzioni di applicazione dell'ambiente di ossigeno

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Descrizione del prodotto

Caratteristiche

1. Struttura di rilevamento del pistone monostadio

2. Intervallo di regolazione della pressione di uscita più ampio

3. Può essere utilizzato per gas standard e gas non corrosivi

4. Installare un elemento filtrante da 20 micron all'ingresso

5. È possibile fornire opzioni di applicazione dell'ambiente di ossigeno

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Specifica del regolatore di pressione del gas

Dati tecnici

1. Pressione di ingresso massima: 4500 psi o 6000 psi

2. Intervallo di pressione in uscita: 0 ~ 1500,0 ~ 3000

3. Materiale dei componenti interni:

Sede valvola: PCTFE

Pistone: 316L

O-ring: FKM

Elemento filtrante: 316L

4. Temperatura di lavoro: – 26 ℃ ~ + 74 ℃ (- 15 ℉ ~ + 165 ℉)

5. Tasso di perdita (elio): Interno: nessuna bolla visibile Esterno: nessuna bolla visibile

6. Coefficiente di flusso (CV): 0,09

7. Attacco principale: Ingresso: 1/4NPT Uscita: 1/4NPT Attacco manometro: 1/4NPT

R41	L	B	B	D	G	00	00	P
Elemento	Materia del corpo	Foro del corpo	Pressione di ingresso	Pressione di uscita	Manometro	Dimensioni ingresso	Dimensione presa	Opzioni
R41	L:316	A	B: 6000psig	D:0~3000psig	G: calibro MPa	00:1/4″NPT(FA)	00:1/4″NPT(FA)	P:Montaggio a pannello
	B: Ottone	B	D: 4500 psig	E:0~1500psig	P:Manometro psig/bar	00:1/4″ NPT(M)	00:1/4″ NPT(M)
		D		F:0~500psig	W:Nessun calibro	10:1/8″ DE	10:1/8″ DE
		G		Sol:0~250psig		11:1/4″ DE	11:1/4″ DE
		J				12:3/8″OD	12:3/8″OD
		M				15:6mm”OD	15:6mm”OD
						16:8mm”OD	16:8mm”OD

Tecniche di pulizia

Standard (WK-BA)
I raccordi saldati vengono puliti secondo le nostre specifiche standard di pulizia e imballaggio.
Non è necessario aggiungere suffissi al momento dell'ordine.
Pulizia con ossigeno (WK – O2)
Sono disponibili le specifiche per la pulizia e il confezionamento dei prodotti per ambienti con ossigeno.
Ciò soddisfa i requisiti di pulizia ASTM G93 Classe C.Al momento dell'ordine, aggiungere -O2 alla fine del numero d'ordine.

Industrie coinvolte

LCD TFT

I gas speciali di processo utilizzati nel processo di deposizione CVD del processo di produzione TFT-LCD sono silano (S1H4), ammoniaca (NH3), fosfina (PH3), protossido di azoto (N2O), NF3, ecc. Inoltre, idrogeno ad alta purezza e alta anche l'azoto puro e altri gas sfusi sono coinvolti nel processo.L'argon viene utilizzato nel processo di sputtering e il gas che forma il film spruzzato è il materiale principale per lo sputtering.Innanzitutto, è necessario che il gas filmogeno non possa reagire con il bersaglio e il gas più appropriato è il gas inerte.Nel processo di incisione verrà utilizzata anche una grande quantità di gas speciale, mentre il gas speciale elettronico è per lo più infiammabile, esplosivo e altamente tossico, quindi i requisiti per il circuito e la tecnologia del gas sono molto elevati.Wofei Technology è specializzata nella progettazione e installazione di sistemi di trasmissione di gas speciali ad altissima purezza.

I gas speciali sono utilizzati principalmente nei processi di formazione di film e di incisione a secco nell'industria LCD.Esistono molti tipi di LCD, tra i quali TFT-LCD è la tecnologia LCD più utilizzata grazie ai tempi di risposta rapidi, all'elevata qualità delle immagini e al costo gradualmente inferiore.Il processo di produzione del pannello TFT-LCD può essere suddiviso in tre fasi: matrice anteriore, cella centrale e assemblaggio del modulo posteriore.Il gas elettronico speciale viene utilizzato principalmente nelle fasi di formazione del film e di attacco a secco del processo di front array.Dopo molteplici processi di formazione del film, i film non metallici SiNx e i film metallici come griglia, sorgente, drenaggio e ITO vengono rispettivamente depositati sul substrato.

1. chi siamo?

La nostra sede è nel Guangdong, in Cina, a partire dal 2011, vendiamo nel sud-est asiatico (20,00%), in Africa (20,00%), nell'Asia orientale (10,00%), nel Medio Oriente (10,00%), nel mercato interno (5,00%), nell'Asia meridionale (5,00%), Nord Europa (5,00%), Centro America (5,00%), Europa occidentale (5,00%), Sud America (5,00%), Europa orientale (5,00%), Nord America (5,00%).Ci sono in totale circa 51-100 persone nel nostro ufficio.

2. come possiamo garantire la qualità?

Sempre un campione di pre-produzione prima della produzione di massa;Sempre Ispezione finale prima della spedizione;

3. cosa puoi comprare da noi?

regolatore di pressione, raccordi per tubi, elettrovalvola, valvola a spillo, valvola di ritegno

4. perché dovresti acquistare da noi e non da altri fornitori?

Abbiamo un paio d'anni con ingegneri professionisti e tecnici dedicati. Possiamo fornire prodotti di sicurezza per te

5. quali servizi possiamo fornire?

Termini di consegna accettati: FOB, CIF, EXW;

Valuta di pagamento accettata:USD,CNY;

Tipo di pagamento accettato: T/T,L/C,Western Union;

Lingua parlata: inglese, cinese

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